全球半导体制造设备龙头ASML周一（3日）表示，已与比利时芯片研究公司Imec合作，于荷兰Veldhoven开设专为High NA EUV曝光设备的测试实验室。
这家实验室斥资3.5亿欧元，经过多年建设，旨在为领先的芯片制造商和其他设备与材料供应公司提供早期使用High NA EUV设备的机会。ASML在曝光设备市场占主导地位，目前只有台积电、三星、英特尔及SK海力士能使用ASML当前一代的EUV设备进行生产。
新High NA设备可将分辨率提高60%，有望带来更小、更快的新一代芯片。ASML预计，客户将在2025至2026年开始使用这款设备，进行商业制造。迄今为止，ASML只向英特尔交货一台测试设备，后者计划2025年将该工具用于14A制程。
尽管ASML最大EUV设备客户台积电预期，A16芯片不需要使用High NA设备，但ASML已接到十几个订单，显示市场对这一顶尖技术的强劲需求。
